文檔幫助中心
Gartner:芯片可能于2023年出現(xiàn)產(chǎn)能過剩
Gartner:芯片可能于2023年出現(xiàn)產(chǎn)能過剩
來源:MoneyDJ
Priestley強(qiáng)調(diào),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的特性為:一旦芯片供需處于平衡時(shí),業(yè)者便會(huì)著手進(jìn)行投資,俾為下一波需求做準(zhǔn)備。然而,當(dāng)前芯片短缺之所以如此嚴(yán)重,在于某些領(lǐng)域產(chǎn)能投資不足,又因新冠疫情,造成工作及學(xué)習(xí)電子設(shè)備需求飆升。
電子設(shè)備、消費(fèi)電子產(chǎn)品、汽車芯片等不同產(chǎn)品使用的芯片各異,生產(chǎn)之制程亦有所不同,例如電子設(shè)備中的處理器或高速運(yùn)算芯片需要先進(jìn)制程,而諸如電源管理芯片則僅需要一般制程即可,不同芯片之產(chǎn)線無法任意切換。在產(chǎn)能供不應(yīng)求情況下,對(duì)于制程相對(duì)簡單之芯片,由于利潤較低,通常較無法獲得產(chǎn)能供應(yīng)。因此,常發(fā)生由于簡單的元件缺貨,造成汽車或電子產(chǎn)品停線待料情形。
此外,晶圓廠無法在數(shù)月內(nèi)興建完成,一座7奈米制程的晶圓廠亦無法輕易轉(zhuǎn)換為5奈米之晶圓廠。Priestley表示,先進(jìn)制程主要瓶頸在于曝光機(jī)臺(tái)供不應(yīng)求。由于5奈米以下先進(jìn)制程必須使用EUV曝光機(jī),惟目前全球僅ASML有能力供應(yīng),而該公司產(chǎn)能亦面臨供應(yīng)不足之窘境。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)另一個(gè)問題來自俄烏戰(zhàn)爭(zhēng)。氖氣為生產(chǎn)鋼鐵后之副產(chǎn)品,亦為半導(dǎo)體制程中關(guān)鍵原料,應(yīng)用于微影制程所需的深紫外光(DUV)及極紫外光(EUV)曝光設(shè)備。俄烏戰(zhàn)爭(zhēng)開打后,烏克蘭當(dāng)?shù)丶兓瘹怏w的工廠已暫停運(yùn)作。近期位于馬立波之亞速鋼廠遭到俄羅斯轟炸后,氖氣的供應(yīng)更是雪上加霜。